中國中芯國際在半導體領域的發展備受關注，尤其是在先進製程方面，其與台積電的差距也成為業界熱議話題。近期有消息指出，中芯國際今年將完成 5 奈米製程開發，但良率僅為台積電的三分之一。這意味著中芯國際在追求半導體自主的道路上，仍然面臨著巨大的挑戰。
中芯國際 5 奈米製程的困境
主要原因是中芯國際缺乏 EUV 設備，只能使用 DUV 設備進行生產。DUV 設備的技術限制導致 5 奈米製程需要更多步驟，生產成本也大幅增加，進而影響良率。
中芯國際 5 奈米製程的良率問題可能會影響其產品的市場競爭力，也可能延緩中國半導體產業的發展。
中芯國際 5 奈米製程的突破
中芯國際正努力尋找突破 7 奈米製程的方法，並尋求同行開發 EUV 設備的協助。
中芯國際的目標是實現中國半導體製造自主，並期望通過持續的技術創新和產業合作，提升自身競爭力。
中芯國際 5 奈米製程的未來展望
中芯國際 5 奈米製程的發展將會影響中國半導體產業的未來，但其能否成功克服良率問題，仍需時間驗證。在全球半導體產業競爭日益激烈的背景下，中芯國際需要不斷突破技術瓶頸，提升自身競爭力，才能在未來市場中佔有一席之地。
常見問題QA
目前尚未確定中芯國際 5 奈米製程何時量產，但華為將會先使用於 Ascend 910C AI 晶片。
目前中芯國際 5 奈米製程的良率僅為台積電的三分之一，而且成本也更高。
中芯國際 5 奈米製程的發展對中國半導體產業至關重要，但其能否成功突破良率問題，將會影響中國半導體產業的未來發展。
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