日本官民合作設立的半導體研發/製造/銷售公司Rapidus宣布攜手美國新創企業，推動資料中心用低功耗AI半導體（晶片）的研發製造。Rapidus Technologies簽署了合作備忘錄（MOC）。藉由該MOC的簽訂，雙方將推動資料中心用低功耗AI晶片的研發製造。Rapidus表示，隨著社會進入以生成式AI為代表的成熟AI時代、資料中心的耗電量增加。據國際能源署（IEA）指出，受生成式AI等因素影響，全球資料中心電力需求揚升，預估2026年有可能達到約1,000TWh。日媒報導，生成式AI需使用大量電力，有預測報告稱全球AI資料中心耗電量今後5年將增至10倍，而Esperanto的技術強項在於降低耗電量。Esperanto CEO Art Swift 15日在東京都舉行的記者會上表示，「利用Rapidus工廠，將革新的設計技術迅速投入市場，應對電力危機」。Rapidus甫於2月和加拿大AI晶片新創公司Tenstorrent合作，而Rapidus社長小池淳義在15日的記者會上表示，「和前次（Tenstorrent）的合作屬於不同領域，電力是迫切的問題」。小池淳義指出，「2027-2028年期間2奈米晶片需求將爆發性增長」。Rapidus目標在2027年量產2奈米以下最先進邏輯晶片，位於北海道千歲市的第一座工廠「IIM-1」已在2023年9月動工，試產產線計畫在2025年4月啟用，2027年開始進行量產。Rapidus設立於2022年8月，由豐田、Sony、NTT、NEC、軟銀、Denso、NAND Flash大廠鎧俠、三菱UFJ等8家日企共同出資設立。（本文由 科技新知，時時更新 提供）
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日本官民合作設立的半導體研發/製造/銷售公司Rapidus宣布攜手美國新創企業，共同推動資料中心用低功耗AI晶片的研發和製造。這項合作由Rapidus Technologies簽署的合作備忘錄（MOC）所推動，旨在應對隨著生成式AI成熟時代來臨，資料中心耗電量不斷增加的問題。根據國際能源署（IEA）的報告指出，受到生成式AI等因素的影響，全球資料中心的電力需求預計將在2026年達到約1,000TWh。
生成式AI所需的大量電力已經成為全球AI資料中心面臨的一個重要問題。然而，Esperanto公司的技術優勢在於降低AI晶片的功耗。Esperanto的CEO Art Swift在東京的一次記者會上表示，通過與Rapidus工廠的合作，他們將能夠快速將創新的設計技術應用到市場中，以應對電力危機。Rapidus最近與加拿大的AI晶片新創公司Tenstorrent合作，而Rapidus的社長小池淳義在記者會上指出，這次與Esperanto的合作與之前與Tenstorrent的合作不同，因為電力問題是一個迫切的議題。小池淳義還提到，在2027-2028年期間，2奈米晶片的需求將會大幅增長。
Rapidus的目標是在2027年實現2奈米以下最先進的邏輯晶片量產。他們的第一座工廠”IIM-1″位於北海道千歲市，於2023年9月開始動工，預計在2025年4月啟用試產產線，並在2027年開始進行量產。Rapidus成立於2022年8月，由豐田、Sony、NTT、NEC、軟銀、Denso、NAND Flash大廠鎧俠和三菱UFJ等8家日本企業共同出資設立。
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